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Niobium ऑक्साइड फिल्म्स प्रतिक्रियाशील sputtering द्वारा जमा: ऑक्सीजन प्रवाह दर का प्रभाव
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Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate
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Niobium ऑक्साइड फिल्म्स प्रतिक्रियाशील sputtering द्वारा जमा: ऑक्सीजन प्रवाह दर का प्रभाव

DOI:
10.3791/59929-v

•

08:23 min

•

September 28, 2019

•

, , , , ,
1Chemistry Department,Federal University of São Carlos (UFSCAR), 2Physics Department, School of Sciences,São Paulo State University (UNESP)

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:47Niobium Oxide Film Deposition
  • 03:55Solar Cell Construction
  • 05:46Results: The Effects of Oxygen Flow Rates on Reactive Sputtering
  • 07:23Conclusion

Summary

Automatic Translation

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यहाँ, हम perovskite सौर कोशिकाओं में एक इलेक्ट्रॉन परिवहन परत के रूप में उपयोग के लिए विभिन्न ऑक्सीजन प्रवाह दरों के साथ प्रतिक्रियाशील sputtering द्वारा निओबियम ऑक्साइड फिल्मों के लिए एक प्रोटोकॉल प्रस्तुत करते हैं.

Tags

Reactive SputteringNiobium Oxide FilmsOxygen Flow RateThin Film DepositionSubstrate PreparationSputtering Process ParametersFilm ThicknessPlasma CleaningImpedance Matching

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