Journal
/
/
Ниобий оксида Пленки депонируется реактивного распыления: Влияние скорости кислородного потока
JoVE Journal
Chemistry
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Chemistry
Niobium Oxide Films Deposited by Reactive Sputtering: Effect of Oxygen Flow Rate
DOI:

08:23 min

September 28, 2019

, , , , ,

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:47Niobium Oxide Film Deposition
  • 03:55Solar Cell Construction
  • 05:46Results: The Effects of Oxygen Flow Rates on Reactive Sputtering
  • 07:23Conclusion

Summary

Automatic Translation

Здесь мы представляем протокол для осаждения оксидов ниобия путем реактивного распыления с различными тарифами потока кислорода для использования в качестве электронного транспортного слоя в перовскитных солнечных элементах.

Related Videos

Read Article