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Chemistry

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U2O5 película preparación vía UO2 deposición por Sputtering de corriente directa y sucesiva oxidación y reducción con oxígeno atómico y el hidrógeno atómico
 
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U2O5 película preparación vía UO2 deposición por Sputtering de corriente directa y sucesiva oxidación y reducción con oxígeno atómico y el hidrógeno atómico

Article DOI: 10.3791/59017-v 12:05 min February 21st, 2019
February 21st, 2019

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Este protocolo presenta la preparación de U2O5 películas delgadas obtenidas en situ en ultra alto vacío. El proceso implica la oxidación y la reducción de las películas de2 UO con oxígeno atómico y el hidrógeno atómico, respectivamente.

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Química número 144 U2O5 UO3 UO2 película C.C. que farfulla espectroscopía de fotoemisión de rayos x oxidación reducción
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