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U2O5 Film Vorbereitung über UO2 Ablagerung von Gleichstrom-Sputtern und aufeinanderfolgenden Oxidation und Reduktion mit atomarem Sauerstoff und atomarer Wasserstoff
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U2O5 Film Vorbereitung über UO2 Ablagerung von Gleichstrom-Sputtern und aufeinanderfolgenden Oxidation und Reduktion mit atomarem Sauerstoff und atomarer Wasserstoff

Article DOI: 10.3791/59017-v • 12:05 min • February 21st, 2019
February 21st, 2019 •
1, 1, 1, 1
1European Commission, Joint Research Centre, Directorate for Nuclear Safety and Security

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Dieses Protokoll stellt die Vorbereitung der U2O5 Dünnfilme erhalten in Situ im Ultra-Hochvakuum. Der Prozess umfasst Oxidation und Reduktion von UO2 Filme mit atomarem Sauerstoff und atomarer Wasserstoff, beziehungsweise.

Tags

Chemie Ausgabe 144 U2O5 UO3 UO2 Film DC-Sputtern Röntgenspektroskopie Fotoemission Oxidation Reduktion
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