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Encapsulation und Permeabilitätseigenschaften von plasmapolymerisierten Hohlteilchen
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Chapters
- 00:05Title
- 01:37Preparation of Silica Nanoparticles for Deposition
- 02:23Preparation of the Vacuum System
- 02:47Plasma Deposition Process
- 04:27Preparation of Hollow Particles by Dissolution of Core Material
- 05:36Characterization of Permeability (Rate of Core Release)
- 06:56Results: Plasma Polymerized Hollow Particles
- 08:40Conclusion
Wir haben Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition werden dünne Schichten im Bereich von einigen nm bis einigen 100 nm auf Nanopartikeln aus verschiedenen Materialien abzuscheiden. Wir anschließend Ätzen der Kernmaterial hohlen Nanohüllen, deren Durchlässigkeit wird durch die Dicke der Schale gesteuert zu erzeugen. Wir beschreiben die Durchlässigkeit dieser Beschichtungen auf kleinen gelösten Stoffen und zeigen, dass diese Barrieren können eine verzögerte Freisetzung des Kernmaterials über mehrere Tage bereitzustellen.
Tags
EncapsulationPermeability CharacteristicsPlasma Polymerized Hollow ParticlesCore-shell NanostructuresPlasma Enhanced Chemical Vapor DepositionAmorphous BarrierPlasma PolymerizationIsopropanolSolid SubstratesSilicaPotassium ChlorideNanoparticlesNanopowdersFilms ThicknessDissolution Of The CoreDiffusion CoefficientKCl NanocrystalsIonic ConductivityEncapsulation And Delayed Release Of SolutesShell ThicknessRate Of Release
