Waiting
Login processing...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
JoVE Journal
Engineering

A subscription to JoVE is required to view this content.
You will only be able to see the first 2 minutes.

Selektiv Area Ændring af Silicon overfladebefugtelighed af Pulsed UV laser Bestråling i Liquid Miljø
 
Click here for the English version

Selektiv Area Ændring af Silicon overfladebefugtelighed af Pulsed UV laser Bestråling i Liquid Miljø

Article DOI: 10.3791/52720
November 9th, 2015

Chapters

Summary November 9th, 2015

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Vi rapporterer om en proces med in situ ændring af HF behandlet Si (001) overflade i en hydrofil eller hydrofob tilstand ved at bestråle prøver i mikrofluide kamre fyldt med H 2 O 2 / H 2 O opløsning (0,01% -0,5%) eller methanol-løsninger hjælp pulserende UV-laser af en slægtning lav puls indflydelse.

Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter