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तरल वातावरण में स्पंदित यूवी लेजर विकिरण से सिलिकॉन की सतह wettability के चुनिंदा क्षेत्र संशोधन
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Selective Area Modification of Silicon Surface Wettability by Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
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तरल वातावरण में स्पंदित यूवी लेजर विकिरण से सिलिकॉन की सतह wettability के चुनिंदा क्षेत्र संशोधन

DOI:
10.3791/52720-v

•

08:48 min

•

November 09, 2015

•

, ,
1Laboratory for Quantum Semiconductors and Photon-based BioNanotechnology, Interdisciplinary Institute for Technological Innovation, Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463, Faculty of Engineering,Université de Sherbrooke

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:24Sample Preparation
  • 02:16Pulsed UV Laser Irradiation in Liquid Environment
  • 03:18Immobilization of Bio-conjugated Nanospheres
  • 03:56Contact Angle Measurement
  • 05:05XPS Measurement
  • 05:52Results: Pulsed UV Laser Irradiation Increases SiOH Surface Concentration
  • 07:10Conclusion

Summary

Automatic Translation

Automatic Translation

हम एचएफ के सीटू परिवर्तन 2 ओ 2 / एच 2 ओ समाधान (0.01% -0.5%) या मेथनॉल समाधान एच के साथ भरा microfluidic कक्षों में नमूने irradiating द्वारा एक हाइड्रोफिलिक या हाइड्रोफोबिक राज्य में सी (001) सतह इलाज में की एक प्रक्रिया पर रिपोर्ट एक रिश्तेदार कम नाड़ी प्रभाव से स्पंदित यूवी लेजर का उपयोग कर।

Tags

Silicon Surface WettabilityPulsed UV Laser IrradiationLiquid EnvironmentSuperhydrophilicHydrophobicSurface FunctionalizationBiosensingOH-terminated SiSi-OCH3 Compounds

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