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임의 기판에 활용 된 고분자 필름의 반응성 증 착
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Reactive Vapor Deposition of Conjugated Polymer Films on Arbitrary Substrates
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임의 기판에 활용 된 고분자 필름의 반응성 증 착

DOI:
10.3791/56775-v

•

07:32 min

•

January 17, 2018

•

,
1Department of Chemistry,University of Wisconsin-Madison, 2Department of Chemistry,University of Massachusetts Amherst, 3Department of Polymer Science and Engineering,University of Massachusetts Amherst

Chapters

  • 00:05Title
  • 00:41Deposition of CI-PProDOT (Poly(3,4-propylenedioxythiophene)) Using Solid FeCl3 as an Oxidant
  • 03:40Deposition of Br-PEDOT (Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)) Using Liquid Br2 as an Oxidant
  • 05:42Results: Characteristics of CI-PproDOT, CI-PTT, and Br-PEDOT Films
  • 07:06Conclusion

Summary

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이 문서에서는 poly(3,4-ethylenedioxythiophene), poly(3,4-propylenedioxythiophene), 및 폴 리의 반응 기상 증 착에 대 한 프로토콜 설명 (thieno [3.2-b] thiophene) 유리 슬라이드와 거친 기판, 섬유, 종이 등에 대 한 영화.

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Keywords: Reactive Vapor DepositionConjugated Polymer FilmsUnconventional SubstratesTextile ElectronicsProDOTIron 3 ChlorideOxidant HeatingVacuum Deposition

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