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Pellicole α al quarzo epitassiale su silicio
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Pellicole α al quarzo epitassiale su silicio: dal materiale ai nuovi dispositivi

Article DOI: 10.3791/61766-v • 11:34 min • October 6th, 2020
October 6th, 2020 •
1, 1, 1, 1, 1
1Institut d'Electronique et des Systemes (IES), CNRS, Université de Montpellier

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Questo lavoro presenta un protocollo dettagliato per la microfabbricazione di sbalzi di α quarzo nanostrutturati su un substrato tecnologico SILICON-On-Insulator (SOI) a partire dalla crescita epitassiale del film di quarzo con il metodo di rivestimento a tuffo e quindi nanostrutturazione del film sottile tramite litografia nanoimprint.

Tags

Ingegneria Numero 164 litografia nanoimprint (NIL) nanostrutturata α-quarzo substrato SOI piezoelettrico microfabbricazione litografia incisione sbalzo MEMS
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