Abstract
反相微乳液用于封装单金属或双金属前过渡金属氧化物纳米颗粒在微孔二氧化硅壳。二氧化硅包封的金属氧化物纳米颗粒然后渗碳在甲烷/氢气气氛中在温度超过800℃，以形成二氧化硅 - 包封的早过渡金属碳化物纳米颗粒。在渗碳处理中，二氧化硅壳防止相邻碳化物纳米颗粒的烧结，同时也防止了过量表面碳的沉积。可替代地，硅石包封的金属氧化物纳米颗粒的温度下可氮化在氨气氛中超过800℃形成氧化硅 - 包封的早过渡金属氮化物纳米颗粒。通过调整反相微乳参数，二氧化硅壳的厚度，和所述渗碳/氮化的条件下，过渡金属碳化物或氮化物的纳米颗粒可以被调谐到各种尺寸，组合物，一次晶相。渗碳或氮化后，将二氧化硅壳然后使用一个室温水氟化氢铵溶液或在40-60℃的0.1至0.5M的NaOH溶液中除去。而在二氧化硅壳被溶解，一个高表面积载体，如炭黑，可以加入到这些溶液以获得支持的前过渡金属碳化物或氮化物的纳米颗粒。如果没有高表面积载体被添加，那么纳米颗粒可以被存储为一个或纳米分散体离心分离，得到纳米粉末。
Introduction
前过渡金属碳化物（差旅管理）是低成本的，表现出高的热稳定性和电化学稳定性以及特有的催化活性地球上资源丰富的材料。1-3具体地，碳化钨（WC）和碳化钼（钼2℃）有被广泛地研究其催化相似之处铂族金属（铂族金属）。4,5-由于这些有利的性质，差旅管理已被确定为候选替换昂贵的PGM催化剂在新兴的可再生能源技术，如生物质转化，燃料电池，和电解槽6,7
为了最大限度地提高催化活性，工业催化剂几乎总是配制成超小纳米颗粒（直径<10纳米）分散在高表面积载体，例如炭黑。8然而，差旅管理的合成需要温度高于〜700℃以上。这导致了nanopartic广泛烧结LES（NPS），多余的表面积炭（焦炭）和热降解的支持。这两种粒子烧结和支持的降解导致材料的表面积下降。过量表面杂质附着块活性金属位点，这已被证明能大大减少或在某些情况下，完全消除的差旅管理。9,10作为这样的催化活性，主要是在散装微粒或薄膜与进行TMC反应性的基础研究精细地控制表面，而不是在高表面积的TMC纳米材料。
许多方法已经发展到合成TMC纳米粒，但这些方法不适合于合成催化剂活性TMC纳米粒。传统的湿法浸渍技术使用浸渍在高表面积载体金属盐溶液。在热，湿热浸渍法可以暴露于破坏性的渗碳条件导致支持退化的催化剂载体。此外，烧结Ç一个仅在载体上的金属的低重量％负荷被减轻，并且它也不能使用湿法浸渍合成不受支持TMC纳米粉末。几个较新的方法包括混合的金属前体与碳前体和施加传统和非传统的加热技术11-18过量碳被用来防止烧结，但是这过量的碳会导致广泛的表面碳，使得这些材料不适合于催化用途。
由于这些合成难题，差旅管理传统上被研究作为助催化剂11为铂族金属，催化剂载体为铂族金属，19-22或支持活性铂族金属单层23-25 这里介绍的方法提供了以合成两个非烧结的能力与金属终止TMC纳米颗粒和过渡金属氮化物（TMN）纳米粒子具有可调尺寸，晶相和金属构成。26的方法提出还提供ABility获得TMC或TMN纳米分散体或沉积的TMC和TMN纳米粒上在室温高表面积的催化剂载体，从而缓解热支持降解。此方法因此适合于TMC和TMN纳米粒，先进的多金属TMC和TMN纳米粒，或需要精确地控制颗粒尺寸和表面的其他应用程序的开发独立催化应用。26
这里介绍的方法使用一个三步式协议来合成TMC和TMN纳米颗粒。在第一步骤中，一个反相微乳液（RME）被用于涂敷前过渡金属氧化物（TMO）的NP在二氧化硅纳米球。该乳液是通过使用市售非离子表面活性在非极性介质中分散的水滴制备。二氧化硅包封TMO纳米粒然后经过任渗碳或氮化热处理。这里，二氧化硅微粒防止烧结在高温下，同时允许反应气体扩散到吨他TMO纳米粒子，并将它们转换为TMC或TMN的NP。在最后的步骤中，二氧化硅壳是使用酸性或碱性处理，得到TMC或TMN纳米分散体可以在一个高表面积载体进行分散，如炭黑除去。
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Protocol
1.合成二氧化硅封装的单金属或金属合金的金属氧化物纳米颗粒的
- 准备反相微乳液
- 加将240ml无水正庚烷到一个干净的，烘箱干燥的1L圆底烧瓶（RBF）使用干净，烘箱干燥量筒含有烘箱干燥的磁力搅拌棒。
- 添加54 ml的聚氧乙烯（4）月桂基醚，以在恒定搅拌下的正庚烷。
注意：由于高粘度和此表面活性剂的低表面张力的，干净的，干燥的60毫升注射器应该用来获得精确的体积，而不是一个量筒。 - 添加7.8 ml的超纯去离子（DI）水的恒定搅拌下使用移液管。密封用橡胶塞和封口膜蜡RBF。让对RME混合至少10分钟。
- 添加0.1〜0.5 ml的试剂级的NH 4 OH的到乳液中，如果它希望降低水解时间。
注意：某些金属醇盐前驱水电lyze慢慢在中性pH。让RME加入NH 4 OH混合后，至少还要10分钟。作为代表例，加入0.5ml 的 NH 4 OH的建议涉及钛（IV）异丙合成。
- 制备金属醇盐前体，醇，和正庚烷溶液
- 一个干净的，烘箱干燥的250个ml的RBF连接到在Schlenk线，并用氮气冲洗。或者，将清洁，烘干250毫升RBF的成干燥的氮气手套箱。
- 加入12ml含5％w / v的异丙醇钨（WIPO）的异丙醇使用干净，干燥的注射器。在此阶段，其他金属醇盐也可以加入，如钽（V）的异丙醇（大埔），钼（V）的异丙醇（MoIPO），铌（V）的异丙醇（NbIPO），钛（IV），异丙醇（TiIPO），镍（Ⅱ），甲氧基乙醇（NiMEO），钴（II），异丙醇（CoIPO）等。
注：金属醇盐可以商业购买或通过加入脱水的合成我们醇使用的Schlenk线如别处所描述的相应的金属氯化物盐。（注意：金属醇盐合成从金属氯化物释放气体HCl，并且必须在通风良好的通风橱中进行）27 - 使用干净的，烘箱干燥的插管，转移120毫升无水正庚烷至250 ml的RBF含有金属醇盐溶液
- 使用干净的，烘箱干燥的套管，转移在10分钟的跨度下恒定搅拌的金属醇盐 - 醇 - 正庚烷溶液进RME。
注意：对于与水反应剧烈金属醇盐，如碲（Ⅳ），增加了一个慢得多的滴加速率是必需的。最终溶液应当是光学透明的考虑所使用的金属醇盐前体的，但也可以是根据所使用的金属醇盐和它们的氧化状态不同的颜色。我们注意到，该乳液是透明或半透明的是取决于粒径而色彩是依赖于金属的氧化态。 - 4小时后，用干净的，干燥的注射器注射1.4 ml的试剂级的NH 4 OH的进入溶液的溶液。然后，使用另一个干净，干燥的注射器，注入1.2毫升试剂级四乙基原硅酸盐（TEOS）中的溶液。
注意：钠氢氧化钠（NaOH）不应被使用，因为它会导致在渗碳/氮化二氧化硅壳的致密化，并导致在最终纳米颗粒的晶格钠杂质。残留的NH 4 OH，另一方面在热处理方便分解。 - 后16.5小时，除去橡胶塞，并使用干净，干燥的量筒添加300ml甲醇中，以在恒定搅拌下的溶液中。
- 后搅拌10分钟，取出搅拌棒，并使溶液沉降。
注意：将有两个液相存在：一个庚烷富有的上层相和富甲醇更低的相位。二氧化硅封装的金属O西德纳米颗粒，指定以SiO 2 / MO x将沉淀从下层相的烧瓶的底部。 - 1小时后，滗出液相成有机废物容器和收集固体相的 SiO 2 / MO 中的x清洁的50ml离心管中。
注意：如果正在使用的聚丙烯或聚苯乙烯离心管中，沉淀剂不能存储长期在该状态下为残留庚烷将缓慢溶解离心管，使其伸长。此外，残留的 NH 4 OH和TEOS可引起在SiO 2继续增长超过了什么期望。 - 离心2,056 xg离心5分钟，在SiO 2 / MO 个第一阶段 ，然后弃去上清液成一个有机废弃物容器。
- 添加10-30毫升丙酮中，以每50ml离心管中，并通过摇动或超声处理分散粉末进入丙酮。这有助于在煅烧前除去多余的表面活性剂。
- CentrifugE中的 SiO 2 / MO x和丙酮的混合物在4626×g离心10分钟，然后倒出上清液成有机废物容器中。允许在SiO 2 / MO x凝胶干燥过夜。
将该合成粉末2.热处理
警告声明：氢气，甲烷和氨气是非常易燃。氨气是有毒的。彻底泄漏检查应所有的热处理之前进行，且治疗应在石英管状炉保持在通风良好的通风橱有一个油鼓泡在气体出口来执行。所有气瓶应配备阻火和存放在远离炉。如果法律要求或机构规定，过量的氨气应通过大量的水进行鼓泡，要么丢弃废物碱或使用的HCl中和至pH 7氯化铵溶液。
- 的二氧化硅 / MO x powde煅烧中R空气
- 粉碎干燥的 SiO 2 / MO x凝胶成使用玻璃搅拌棒或研钵和杵细粉。放入氧化铝坩埚船和负载的粉末放入石英管炉中。
- 使用2℃/ min的加热速率，煅烧下100sccm的空气的的 SiO 2 / MO x粉末在450℃下1小时。这消除了任何残留的表面活性剂并且还提高了二氧化硅壳的微孔。后炉冷却，取出在环境条件下煅烧的SiO 2 / MO x粉末和商店。
- 在SiO 2 / MO x粉末在甲烷/氢气气氛的渗碳
- 加载煅烧过的 SiO 2 / MO x粉末成无釉氧化铝坩埚舟，并放入石英管式炉。冲洗石英管炉用氮气至少30分钟以除去氧气。通过喷洒所有关节用肥皂水进行泄漏检查。
- 使用2℃/ min的加热速率，渗碳在氢气120sccm的和33标准立方厘米甲烷在850℃下4小时，以形成的 SiO 2 / MC x中的SiO 2 / MO x粉末。
- 4小时后，停止甲烷的流动并保持该粉末在850℃下1小时，在短短120sccm的氢气以清除任何过量的表面碳。
- 允许炉内慢慢下120sccm的氢气冷却到室温。然后，冲洗炉用氮气至少30分钟，以除去氢。
- 流95标准立方厘米氮气和5sccm气过粉末3小时暴露于空气之前缓慢钝化碳化物。
- 除去从炉和存储在SiO 2 / MC x粉末在真空干燥器或在干燥的氮气手套箱防止长期堆积在空气中氧化的金属碳化物纳米颗粒。
- 在SiO 2 / MO x粉末的在氨气氛中氮化
- 罗亚D中的煅烧过的 SiO 2 / MO x粉末放进氧化铝坩埚舟，并放入石英管式炉。
- 冲洗石英管炉用氮气至少30分钟以除去氧气。
- 使用2℃/ min的加热速率，nitridize在SiO 2 / MO X的 100sccm的氨在800℃粉末4小时，以形成的 SiO 2 / MN 的X.
- 允许炉缓慢冷却至室温。然后，冲洗炉用氮气至少30分钟，以除去氨。
- 流95标准立方厘米氮气和5sccm气过粉末3小时暴露于空气之前缓慢钝化氮化物。
- 除去从炉和存储在SiO 2 / MN x粉末在真空干燥器或在干燥的氮气手套箱防止长期堆积在空气中氧化的金属氮化物的纳米颗粒。
3.取出硅胶壳和支持纳米颗粒
警告声明：氟化氢铵（ABF）是剧毒。在通风良好的通风橱中使用适当的个人防护装备，包括丁基橡胶手套，面罩和抗HF labcoat具有耐氢氟酸袖子时，才应处理。玻璃和金属的实验室设备不应该处理ABF时使用。
- 硅溶解在氟化氢铵对酸稳定金属碳化物和氮化物（如WC和W 2 N）
- 称取200毫克的 SiO 2 / MC x或SiO 2的/ MN x的并放入30ml的可密封聚丙烯容器有聚四氟乙烯涂覆的磁性搅拌棒。
- 如果期望，以支持在一个高表面积催化剂载体上的纳米颗粒，如碳黑或碳纳米管，称出料，并将其添加到可密封的聚丙烯容器中。
注意：质量称出将取决于纳米颗粒在th所期望的负载电子书支持。为催化剂的支持体是不稳定的ABF，如氧化铝，载体可以添加二氧化硅已被除去之后和在ABF被中和。如果不支持添加，纳米分散体将获得。 - 加入20毫升的超纯去离子水，并开始混合以形成悬浮液。或者，预先制作20重量％ABF溶液添加20毫升
- 称取5克的ABF，然后添加到搅拌混合物中。添加后，密封聚丙烯容器。
注：ABF在水中溶解是吸热的，所以，溶液的温度会下降。 - 为了确保二氧化硅和在催化剂载体上的纳米颗粒的分散性好完全溶解，停止16小时后，反应通过加入试剂级的NH 4 OH逐滴以中和ABF溶液至pH 6-7。注意：该反应是放热的。
- 空中和的混合物放入离心管中并在离心机2056 xg离心10分钟。
- 清空苏佩rnatant成为碱性废液容器（以确保总的中和）和再分散催化剂粉末在20ml超纯去离子水。
- 离心4626 xg离心10分钟，弃去上清液，并做一最后20毫升去离子水冲洗。多达12850×g离心可能需要不受支持纳米颗粒。
- 干燥粉末在真空下，然后存储在真空干燥器中或干燥的氮气手套箱防止长期堆积氧化金属碳化物或氮化物的纳米颗粒。
- 硅溶解在氢氧化钠碱性稳碳化物和氮化物（如TAC和钽3 N 5）
- 称取200毫克的 SiO 2 / MC x或SiO 2的/ MN x的并放入50ml玻璃RBF有磁力搅拌棒。称出并根据需要添加的催化剂载体。
- 加入30毫升的至少0.1M的NaOH水溶液。安装冷凝器的RBF或密封用橡胶塞和封口膜蜡。
- 热，在60℃下持续搅拌16小时。冷却后，离心该溶液在2056×g离心10分钟。
- 清空上清液成为碱性废液容器和再分散的催化剂粉末在20ml超纯去离子水。
- 离心4626 xg离心10分钟，弃去上清液，并做一最后20毫升去离子水冲洗。多达12850×g离心可能需要不受支持纳米颗粒。
- 干燥粉末在真空下，然后存储在真空干燥器中或干燥的氮气手套箱防止长期堆积氧化金属碳化物或氮化物的纳米颗粒。
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Representative Results
在该协议的第一步骤中，目标是封装内微孔二氧化硅球的单金属或双金属的过渡金属氧化物（TMO）的NP。 图1示出了代表性的合成的前和沉淀用甲醇后拍摄的图像。期间，似乎是取决于在合成中使用的金属此步骤两次重现的形态的结果已经观察到：该TMO的NP可以单独涂覆有二氧化硅球体（图2b）或多个TMO的NP可以在一个单一的硅球被涂覆（图2a）。单独使用涂覆TMO纳米粒已经观察到，使用钛，钽，铌和合成，而乘法 - 涂覆纳米粒子的TMO已经观察为Mo和W.有可能通过进行金属醇盐也能合成这些金属在单独涂覆的制剂水解在升高的pH值。 表1详细结果，用于控制颗粒大小和使用对RME组合物。我们推测，在升高的pH值，NP生长率较高，以及较大的纳米颗粒可以更容易地成核的 SiO 2球体生长（ 图6c，d）所示。在低pH值，某些金属醇水解速度非常慢，导致最终成为镶嵌以SiO 2球体超小的TMO细胞核（ 图6a，b）中。
商标局NPs的金属组合物是通过加入到RME以及它们是否被混合在一起（如呈现的给定的协议中）或先后加入金属醇盐控制的。例如，大埔可以与WIPO和庚烷注入对RME或大埔之前混合/庚烷混合物可以注入到RME 4小时后，WIPO /庚烷混合物已注射并使其水解。
许多变数，必须考虑到控制TMO纳米粒子的大小。所述第一组变量是表面活性剂和油相的选择。在此，水/正庚烷E /的Brij-L4®系统已被选为由于其广泛的稳定窗口和合成非常小的纳米粒子的能力。备选地，水/正庚烷/ IGEPAL CO-520®可以使用，如果较大的TMO纳米粒希望作为如图 3所示。另外，可以修改成核与生长速率通过加入NH 4 OH到RME金属前醇盐加成，产生较大的纳米颗粒，如图6c中，以及d， 和 在表1中概述 ，一旦对RME系统被选择，所述第一组变量控制TMO尺寸可以一起分组为RME控制参数。这些包括水：表面活性剂的比例，油：水的比例，该油状物：表面活性剂的比例，对RME的温度，和对流混合的程度。这些参数决定了悬浮的水滴的大小，其彼此接近乳液内，它们的平均多分散性，一个滴聚结分离的D-率。
最后一组影响的TMO的NP尺寸变量可以被分类为金属醇盐的水解的控制参数。这些包括金属醇盐：水的摩尔比，时间的金属醇盐是允许启动所述二氧化硅涂层，水滴的pH值，温度之前水解的长度，和金属醇盐除了RME系统的速率。
最终，该方法的目标是生产非烧结和金属封端的TMC和TMN纳米颗粒（称为TMCN纳米颗粒为方便起见）。获得这样的结果取决于合成微孔二氧化硅涂层具有较高的热稳定性也抑制TMC和TMN纳米粒子的烧结。为了实现这一结果，有两组变量必须考虑：影响二氧化硅的热稳定性影响TMCN粒径二控制变量和控制变量stribution（PSD）。
上加热，微孔硅石可以过渡到密相，并最终以石英，因此很难得到纯相TMCN NP和可以使二氧化硅去除更具挑战性。为了最大限度地提高二氧化硅涂层的热稳定性，已观察到，在TEOS水解，并且在SiO 2 / TMO纳米粒应从RME使用甲醇沉淀，而不是其他常见的沉淀剂如丙酮或需要高pH值异丙醇。 图4示出的粉末X射线衍射图（PXRD）渗碳的 SiO 2 / WO x材料在不同pH值进行的二氧化硅涂层而渗碳的 SiO 2 / WO x材料如图5所示的PXRD与二氧化硅涂层衍射图在执行相同的pH，但沉淀用三种不同的溶剂。 TEOS水解在高pH值已被证明导致大量的undercoordin的ated Q2和Q3位点，从而导致较高的微孔体积。28沉淀剂的硅胶的热稳定性的影响是知之甚少，但TEM图像显示，絮凝用甲醇导致更少的聚集的 SiO 2 / TMO絮凝物如用丙酮和异丙醇进行比较（结果未显示）。我们发现这种假设从沉淀小于甲醇对过程中的推荐量的 SiO 2 / TMO絮凝物的TEM图像的支持。用于合成絮凝较少甲醇，絮凝物出现更聚集和二氧化硅不太稳定，过渡到石英样结构域在较低温度时相比，过量的甲醇是在絮凝步骤中使用（结果未显示）。
所述TMCN PSD由初始的TMO纳米粒的大小以及该二氧化硅纳米结构的控制。在理论上，如果TMCN烧结可以完全由二氧化硅弹渗碳/氮化条件缓和，则TMCNPSD将由初始TMO PSD中，由最初的水合无定形TMO晶格和最终结晶TMC或TMN晶格之间的密度差调整被完全控制。这样的结果已通过使用厚的二氧化硅壳与图6c 和d所示的代表性例子密切实现。
如果烧结未完全缓解，则最终TMCN PSD将由了初始TMO PSD和二氧化硅涂层来控制。这是为薄的二氧化硅涂层或为超小型1-2毫微米的TMO的NP，可以更容易地在二氧化硅涂层内扩散，尤其如此。的代表性示例示于图6a和6b。这里，相同的初始1-2毫微米的TMO的PSD被使用，但该二氧化硅涂层被改变为50纳米至35纳米。在厚二氧化硅涂层，烧结被减轻，并得到一个1-2毫微米的TMC的PSD，而在薄二氧化硅涂层，烧结是仅部分地缓解和一个2-3纳米TMC PSD结果。请注意，某些烧结是存在于二氧化硅表面球体后渗碳，这我们赋予小表面结合TMC的NP可以在整个二氧化硅球与烧结体的表面横向扩散。
渗碳之后，已经观察到，对于乘法涂覆TMCN纳米粒中，二氧化硅涂层保持球形与硅石的最小烧结（图6a和6b）。相反，对于单独使用涂覆TMCN纳米粒中，二氧化硅涂层烧结在一起（图6c和6d）。我们推测，乘法涂覆TMCN纳米粒的二氧化硅球提供结构完整性在高温下，从而防止二氧化硅球体的烧结。虽然这不是为单独涂覆TMCN纳米粒的情况下，二氧化硅球的烧结没有观察到抑制该二氧化硅涂层两者的能力防止TMCN纳米颗粒的烧结，同时还允许carburizing或氮化气体分子扩散通过它们（ 图6c和6d）。 PXRD衍射图已被包括在图8为不同尺寸的各种单金属和杂金属前过渡金属的碳化物和氮化物的纳米颗粒。
所述TMCN纳米粒在炭黑（CB）的溶解会导致诸如硫化XC-72R到良好分散的，所支持的NP。代表性的结果示于图7c。可替代地，如果没有支持添加时，获得了黑色纳米分散体的悬浮液，如图7a所示。因为没有表面稳定剂期间或溶解后添加，所述TMCN纳米颗粒在溶液中形成小聚集体，有代表性的例子，其中显示在图7b中。
| 实验结果 | 前体 | 初始的 NH 4 OH（毫升） | 最终NH 4 OH（毫升） | TEOS（毫升） | |
| 1-2纳米WC | W（Ⅵ）的IPO（5％重量/体积） | 12 | 0 | 2.7 | 1.2 |
| 2-3纳米WC | W（Ⅵ）的IPO（5％重量/体积） | 12 | 0 | 1.4 | 0.6 |
| 6-8纳米WC | W（Ⅵ）的IPO自制（5％重量/体积） | 12 | 0.4 | 1.4 | 1.6 |
| 7-10纳米WC | W（Ⅳ）的IPO自制（6.5％重量/体积） | 8.8 | 1.4 | 1.4 | 1.6 |
| 9-13纳米WC | W（Ⅳ）的IPO自制（6.5％重量/体积） | 10.2 | 1.4 | 1.4 | 1.6 |
| 4-6纳米钛为0.1W 0.9Ç | W（Ⅵ）的IPO（5％重量/体积） | 10.8 | 0.7 | 1.4 | 0.6 |
| 钛（Ⅳ）的IPO（5％重量/体积） | 0.7 | ||||
| 7-10海里（镍0.3瓦0.7）2 C | W（Ⅵ）的IPO（5％重量/体积） | 8.4 | 0.4 | 1.4 | 0.6 |
| 的Ni（II）的MEO（5％重量/体积） | 1.4 |
表1：控制TMC粒径通过控制RME参数 *初始的 NH 4 OH的当NH 4 OH已被添加到之前的金属醇盐的水解的乳液而最终的NH 4 OH为NH 4 OH存在于乳液之前的总量TEOS被注入。
图1：Repres （ - C A）和（D，F），加入300毫升甲醇后含有SiO 2 / TMO纳米粒RME合成的前立即entative图片。 （A）是合成的 SiO 2 / WO X，（B）所示的SiO 2 /钼0.06W¯¯0.94○×合成，以及（C）所示的SiO 2 /钼0.54W¯¯0.46○×合成，而（D）和（E）表示的在SiO 2 / WO x合成甲醇的加入后不同视角。在（D）和（E）中，顶部相是庚烷-富液相，下层液相为甲醇富集，并且在烧瓶底部是在SiO 2 / WO x絮凝物。与许可参考26重新打印。
图2：（A）代表TEM照片乘涂WO x纳米粒子中的SiO 2球体和 （B）单涂层钽0.3瓦0.7○×内的SiO 2球纳米颗粒。规模酒吧是纳米。从参考26修改。
图3：氧化硅的代表性TEM图像2 / WO x除了用60mlIgepal®CO-520，而不是54毫升Brij®〜L4的表面活性剂中的过程中所述相同的条件下合成的比例尺是在纳米。从参考26修改。
图4： 的 SiO 2的代表性的PXRD衍射/ WO x涂层在不同pH值 Carburizations分别在835℃进行4小时下为21％CH 4 / H 2和示出了使用的pH（A）的材料涂覆10。 （B）10.5，（C）的10.9， 和 （D）11.1。低pH值的合成（A和B）具有石英状二氧化硅（在22°的尖锐的峰表示）和多个碳化物相，而高pH合成（C和D）具有宽的峰值集中于22°，表示无定形二氧化硅和单相的面心立方的WC纳米粒。与许可参考26重新打印。
图5：PR溶剂沉淀效应研究ecipitating的SiO 2 / WO x或二氧化硅 /莫x宽1×○y随 （A）甲醇，（B），丙酮， 和 （C）异丙醇。所有材料均用冲洗沉淀后丙酮。的PXRD衍射图是对于所得到的材料后渗碳在835℃下4小时下为21％CH 4 / H 2。与许可参考26重新打印。
图6：（A）1-2纳米二氧化硅的代表性TEM和HAADF-STEM 图像 2 / WC纳米颗粒后渗碳，（B）2-3纳米的SiO 2 / WC纳米颗粒后渗碳，（C）7-10纳米二氧化硅 / WC纳米颗粒后渗碳，（D）9-13纳米的SiO 2 / WC纳米颗粒后渗碳。规模酒吧是纳米。 Modified从参考26。
图7：（A）一种六方WC纳米分散体为7.5毫克分散在水中的照片/ ml的前三个星期坐在静止环境中的条件下，（B）一种不支持的β-WC纳米粉末的代表性的HAADF-STEM图像，后（℃ ）在25％（重量）的β-WC纳米粒代表的HAADF-STEM图像负载在炭黑。规模酒吧是纳米。从参考26修改。
图8：二氧化硅-包封的单金属和杂金属前过渡金属的碳化物和各种尺寸的氮化物的PXRD衍射图。所有TMNs下100人氮化SCCM NH 3在800℃下4小时。 2-3纳米的SiO 2 / W 2 C的合成，在775℃下，18％CH 4 / H 2 4小时，而所有的<3纳米TMC纳米粒子合成于835℃，21％CH 4 / H 2 。较大的TMC纳米粒子合成在900℃下，21％CH 4 / H 2。从参考26修改。
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Discussion
甲程序用于合成非烧结，金属端过渡金属碳化物和氮化物的纳米颗粒与可调谐的尺寸和结构在这里提出的方法26的关键步骤包括：使用无湿气的RBF以包含稀释金属醇盐前体，避免了碱金属在所有步骤的杂质，而不是丙酮或异丙醇，渗碳或氮化的组件，并用氟化氢铵工作时使用合适的PPE之前执行适当的泄漏检查沉淀用过量的甲醇对RME。
该方法可以在几个方面进行修改。表面活性剂的比例，不同的金属醇：水的比例，不同pH值，不同的水解时间的TMO PSD可以使用不同的RME系统，不同的水进行调整。的TMCN PSD可以通过操纵开始的TMO的PSD以及通过加入不同量的 NH 4 OH和TEOS的被操纵，使用不同的TEO小号水解时间和使用不同的渗碳/氮化温度。晶相纯度的TMCN纳米颗粒的可使用不同的温度和所述渗碳/氮化气体的不同中心线的速度进行操作。所述TMCN NPs的组合物可以通过使用任何可水解的前过渡金属醇盐进行调整，从而导致潜在的多金属TMC和TMN纳米粒的一个大的阵列，可以用这种方法来合成。
这种技术是用于需要精确地控制尺寸的也具有金属封端的表面的非烧结颗粒的TMC和TMN纳米粒的应用最合适的。这种技术也适用于易用性，使各种多金属的TMC和TMN纳米粒的可配制。该技术是由二氧化硅涂层的热稳定性的限制。 TMC和TMN纳米粒需要渗碳或氮化温度超过1000℃可能不能由该会晤来合成HOD由于二氧化硅微孔在这些极端温度的热崩溃。该技术也仅限于TMC和TMN纳米粒是稳定于二氟化铵或碱性溶液作为要么一种酸性或碱性处理是必需的渗碳/氮化后，除去二氧化硅涂层。
相对于现有的方法来合成TMCN纳米粒，这种方法是在其同时减轻两者粒子烧结和过量表面杂质附着能力是唯一的。它也是在它的多功能性的独特的合成单金属和多金属纳米粒子TMCN一系列广泛的，只要求一个可水解的前过渡金属的醇盐前体可以购买或合成。虽然这种方法比标准湿法浸渍合成更复杂，它允许非烧结和金属封端TMCN纳米粒被装载到在室温下具有高表面积载体，并在任何所需重量％的负载。在潮湿的我mpregnation合成，该催化剂载体必须暴露在渗碳条件下，从而导致它们的热降解，和低重量％负载量必须被用来减轻过度粒子烧结。
学习这一技术后，未来的发展方向包括其他多金属成分，其他的RME或溶胶 - 凝胶体系的探索，采用陶瓷涂层比二氧化硅，氧化铝等，共饲养渗碳氮化气体，并使用其它反应性气体的前体，使例如硼化物或磷化物。
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Materials
| Name | Company | Catalog Number | Comments |
| n-heptane | Sigma-Aldrich | 246654 | |
| polyoxyethylene (4) lauryl ether | Sigma-Aldrich | 235989 | Brij® L4 |
| tungsten (VI) isopropoxide | Alfa Aesar | 40247 | W(VI)IPO |
| tungsten (VI) chloride | Sigma-Aldrich | 241911 | To prepare W(VI)IPO, homemade |
| tungsten (IV) chloride | Strem Chemicals | 74-2348 | To prepare W(IV)IPO, homemade |
| tantalum (V) isopropoxide | Alfa Aesar | 40038 | Ta(V)IPO |
| niobium (V) isopropoxide | Alfa Aesar | 36572 | Nb(V)IPO |
| nickel (II) methoxyethoxide | Alfa Aesar | 42377 | Ni(II)MEO |
| titanium (IV) isopropoxide | Sigma-Aldrich | 87560 | Ti(IV)IPO |
| molybdenum (V) isopropoxide | Alfa Aesar | 39159 | Mo(V)IPO |
| molybdenum (V) chloride | Sigma-Aldrich | 208353 | To prepare Mo(V)IPO, homemade |
| tetraethyl orthosilicate | Sigma-Aldrich | 333859 | TEOS |
| ammonium hydroxide | Sigma-Aldrich | 320145 | |
| methanol | Sigma-Aldrich | 34860 | |
| anhydrous isopropanol | Sigma-Aldrich | 278475 | To prepare homemade alkoxides |
| ammonium bifluoride | Sigma-Aldrich | 224820 | |
| carbon black | Cabot Corp. | Vulcan® XC72R | |
| Methane | AirGas | ME R300 | |
| Hydrogen | AirGas | HY UHP300 | |
| Ammonia | AirGas | AM AH80N705 | |
| Quartz Tube Furnace | MTI Corp. | OTF-1200X-S-UL |
References
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