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Fabrication de cavités uniformes à l’échelle nanométrique via la liaison directe de plaquettes de silicium
 
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Fabrication de cavités uniformes à l’échelle nanométrique via la liaison directe de plaquettes de silicium

Article DOI: 10.3791/51179-v 10:32 min January 9th, 2014
January 9th, 2014

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Un procédé de collage permanent de deux plaquettes de silicium de manière à réaliser une enceinte uniforme est décrit. Cela comprend la préparation des plaquettes, le nettoyage, le collage RT et les processus de recuit. Les plaquettes collées résultantes (cellules) ont une uniformité d’enceinte ~1%1,2. La géométrie résultante permet de mesurer des liquides et des gaz confinés.

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Physique Numéro 83 liaison directe de plaquettes de silicium à l’échelle nanométrique plaquettes collées plaquette de silicium liquides confinés techniques lithographiques
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