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조사 폰 Willebrand 요소 이상 모델을 사용 하는 흐름 챔버의 폰 Willebrand 요인-혈소판 문자열 형성
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Investigating von Willebrand Factor Pathophysiology Using a Flow Chamber Model of von Willebrand Factor-platelet String Formation
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조사 폰 Willebrand 요소 이상 모델을 사용 하는 흐름 챔버의 폰 Willebrand 요인-혈소판 문자열 형성

DOI:
10.3791/55917-v

•

08:30 min

•

August 14, 2017

•

, , , ,
1Department of Pathology and Molecular Medicine,Queen’s University, 2Department of Medicine,Queen’s University

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:02Endothelial Cell Flow Chamber Seeding
  • 02:26Flow Apparatus Assembly and Miroscope Setup
  • 04:15von Willebrand Factor (VWF)-Platelet String Formation and Quantification
  • 07:05Results: Histones Mediate VWF-Platelet String Formation
  • 07:43Conclusion

Summary

Automatic Translation

Automatic Translation

이 문서에서 설명 하는 내 피 폰 Willebrand 평가 하는 방법 요소 릴리스 및 다음 혈소판 유체 전단 응력은 생체 외에서 흐름 챔버 시스템을 사용 하 여 염증 성 자극에 대 한 응답에서에서 캡처.

Tags

Von Willebrand FactorVWF-platelet String FormationFlow Chamber ModelCollagenEndothelial CellsPlateletsSecretagoguesIn VitroMicroscopySyringe Pump

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