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Filmes nanoestruturados nanoestruturados de α-quartzo sobre silício
 
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Filmes nanoestruturados nanoestruturados de α-quartzo sobre silício: do material aos novos dispositivos

Article DOI: 10.3791/61766-v 11:34 min October 6th, 2020
October 6th, 2020

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Este trabalho apresenta um protocolo detalhado para a microfabização de cantilever nanoestruturado de α-quartzo em um substrato de tecnologia Silicon-On-Insulator (SOI) a partir do crescimento epitaxial do filme de quartzo com o método de revestimento de mergulho e, em seguida, nanoestruturação do filme fino através de litografia nanoimimprint.

Tags

Engenharia Edição 164 litografia nanoimimpressora (NIL) nanoestruturado α-quartzo substrato SOI piezoelétrico microfabricação litografia gravura cantilever MEMS
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