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金属補導電気化学ナノインプリンティングの多孔質および固体シリコンウエハー
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Metal-Assisted Electrochemical Nanoimprinting of Porous and Solid Silicon Wafers
DOI:

09:18 min

February 08, 2022

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Chapters

  • 00:05Introduction
  • 01:19Mac-imprint Stamp Preparation
  • 02:43Photoresist Ultraviolet (UV) Nanoimprinting
  • 04:05Gold and Silver/Gold Catalyst Thin Film Deposition
  • 05:17Silver/Gold Catalyst Thin Film Dealloying
  • 06:01Mac-imprint Operation
  • 07:33Results: Representative Au Porous Stamp and Si Mac-imprint Imaging
  • 08:31Conclusion

Summary

Automatic Translation

20nm以下の形状精度を持つ3Dマイクロスケールの特徴を固体および多孔質シリコンウエハーに金属アシストした化学インプリンティング用プロトコルが提示されています。

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