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金属補導電気化学ナノインプリンティングの多孔質および固体シリコンウエハー
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Metal-Assisted Electrochemical Nanoimprinting of Porous and Solid Silicon Wafers
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金属補導電気化学ナノインプリンティングの多孔質および固体シリコンウエハー

DOI:
10.3791/61040-v

•

09:18 min

•

February 08, 2022

•

, , ,
1The Polytechnic School,Arizona State University

Chapters

  • 00:05Introduction
  • 01:19Mac-imprint Stamp Preparation
  • 02:43Photoresist Ultraviolet (UV) Nanoimprinting
  • 04:05Gold and Silver/Gold Catalyst Thin Film Deposition
  • 05:17Silver/Gold Catalyst Thin Film Dealloying
  • 06:01Mac-imprint Operation
  • 07:33Results: Representative Au Porous Stamp and Si Mac-imprint Imaging
  • 08:31Conclusion

Summary

Automatic Translation

Automatic Translation

20nm以下の形状精度を持つ3Dマイクロスケールの特徴を固体および多孔質シリコンウエハーに金属アシストした化学インプリンティング用プロトコルが提示されています。

Tags

Metal-assisted Electrochemical NanoimprintingPorous SiliconSolid SiliconHierarchical MicrostructuresMetasurface-based Microoptic ElementsWaveguide TechnologiesOptical BiosensorsInfrared Optical DevicesIII-V SemiconductorsStamp To Substrate Tip And Tilt AlignmentRCA-1 SolutionPFOCSPDMSUV Nanoimprinting

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